기기명	Photo 공정장비
영문명	Spin Rinser Dryer,Wet Station,Mask Aligner,Spin Coater & Hot Plate
분류	OLED 공정장비
장비상태	정상 ○
기기모델
설치장소	OLED조명연구동 OLED공정실
제조회사
구입일자	2012-06-15
장비담당	전화 : 033-452-9882
장비상세정보
장비사양	1 Spin Dryer : spin tolerance: 3%, brush DC motor: 750W, rotor rpm 측정 sensor 2 Wet Station System : substrate size 200X200㎟, 기판 세정, 현상, 에칭, PR 제거 3 mask Aligner : Resolution : 10㎛, Substrate Size: 200 x 200㎟, I,H,G-line 복합파장, Mercury-vapor UV lamp, Film Mask 대응 4 Spin Coater : substrate size 200X200㎟, PR Port 3ea, baking hot plate 3ea
장비활용	OLED 조명에 적용되는 투명기판은 현재 소다라임 유리기판에 ITO 투명전극을 적용한 구조가 주로 사용되고 있다. OLED 디스플레이와는 다르게 조명의 경우 대면적의 패널이 요구되고 이는 ITO 의 면적이 매우 넓어 내부저항으로 인해 표면의 발광휘도 불균일을 초래하는 문제를 안고 있다. 이로 인해 다양한 구조의 보조전극 또는 금속박막을 사용하는 기술들이 제공되고 있으나 산업적으로 적용하기 위한 신뢰성을 가지고 있는 방법은 금속보조전극 메쉬구조를 적용하는 것이다.

Photo 공정장비
영문명: Spin Rinser Dryer,Wet Station,Mask Aligner,Spin Coater & Hot Plate
기기분류: OLED 공정장비
장비상태: 정상 ○
기기모델:
설치장소: OLED조명연구동 OLED공정실
제조회사:
구입일자: 2012-06-15
장비담당: , 033-452-9882
장비상세정보
장비사양: 1 Spin Dryer : spin tolerance: 3%, brush DC motor: 750W, rotor rpm 측정 sensor 2 Wet Station System : substrate size 200X200㎟, 기판 세정, 현상, 에칭, PR 제거 3 mask Aligner : Resolution : 10㎛, Substrate Size: 200 x 200㎟, I,H,G-line 복합파장, Mercury-vapor UV lamp, Film Mask 대응 4 Spin Coater : substrate size 200X200㎟, PR Port 3ea, baking hot plate 3ea
장비활용: OLED 조명에 적용되는 투명기판은 현재 소다라임 유리기판에 ITO 투명전극을 적용한 구조가 주로 사용되고 있다. OLED 디스플레이와는 다르게 조명의 경우 대면적의 패널이 요구되고 이는 ITO 의 면적이 매우 넓어 내부저항으로 인해 표면의 발광휘도 불균일을 초래하는 문제를 안고 있다. 이로 인해 다양한 구조의 보조전극 또는 금속박막을 사용하는 기술들이 제공되고 있으나 산업적으로 적용하기 위한 신뢰성을 가지고 있는 방법은 금속보조전극 메쉬구조를 적용하는 것이다.