기기명	배치형 마그네트론 스퍼터링 시스템
영문명	Batch type magnetron sputtering system
분류	코팅 공정장비
장비상태	정상 ○
기기모델
설치장소	연구원본관 인포비온공정실
제조회사	이엔테크놀로지
구입일자	2005-05-13
장비담당	전화 : 033-452-9706
장비상세정보
장비사양	o Chamber - 크기 : Ø1400×H1800 (mm) - 챔버 벽면 두께 : 40mm 이상 - 마그네트론 소스 flange : 4 set, door type - Shielding plate : polished SUS, 2 set - Source shutter assy. - View ports & Accessory ports - Heater : Max 450℃, 15분이내 가열(시편위치), 인코넬 쉬스 히터
장비활용	o Primer 대체용 플라즈마 세정 공정 o UV 코팅 대체용 고강도, 내마모, 내지문용 코팅 제품 상업화 기술 개발 o 각종 기계 및 자동차 부품 고기능성 건식 코팅 o 디지털 전자기기 부품 코팅 기술 및 시제품 개발

배치형 마그네트론 스퍼터링 시스템
영문명: Batch type magnetron sputtering system
기기분류: 코팅 공정장비
장비상태: 정상 ○
기기모델:
설치장소: 연구원본관 인포비온공정실
제조회사: 이엔테크놀로지
구입일자: 2005-05-13
장비담당: , 033-452-9706
장비상세정보
장비사양: o Chamber - 크기 : Ø1400×H1800 (mm) - 챔버 벽면 두께 : 40mm 이상 - 마그네트론 소스 flange : 4 set, door type - Shielding plate : polished SUS, 2 set - Source shutter assy. - View ports & Accessory ports - Heater : Max 450℃, 15분이내 가열(시편위치), 인코넬 쉬스 히터
장비활용: o Primer 대체용 플라즈마 세정 공정 o UV 코팅 대체용 고강도, 내마모, 내지문용 코팅 제품 상업화 기술 개발 o 각종 기계 및 자동차 부품 고기능성 건식 코팅 o 디지털 전자기기 부품 코팅 기술 및 시제품 개발